前言
GMF（Graphical Modeling Framework）是Eclipse的一个开源项目，它在结合了EMF和GEF的 基础上，为基于模型的图形化编辑器的开发提供了一个功能强大的框架，开发人员可以采用建 模的方式很容易的生成高质量的代码框架。
GMF主要由开发工具和运行时两部分组成。开发工具负责基于GMF核心模型的设计和建模工作 ，包括：描述具体领域模型的 Graph 模型的表示，Tool 模型的表示，以及如何用 Mapping 模 型对前面三个模型进行映射组合，从而根据定义好的 Mapping 模型生成 Gen 模型，并最终完 成代码框架的生成。三个独立的模型设计大大提高了模型的可重用性，开发人员可以在各模型 所关注的领域对其进行进一步的定制，这个将在深入了解GMF建模工具中有详细介绍。GMF的运 行时环境提供了丰富的组件（如Command框架，Services, Global Action, Layout等等）和强 大的扩展机制，如 org.eclipse.gmf.runtime.emf.ui.modelingAssistantProviders, org.eclipse.gmf.runtime.common.ui.services.parserProviders， org.eclipse.gmf.runtime.diagram.core.viewProviders 等等，这些将在深入了解GMF运行时 框架中详细地介绍。
刚发布的GMF2.0 在 GMF1.0 的基础上进一步提高了其易用性，同时也加入了相当的新功能 。比如：Diagram 内容导航的支持，对 RCP 应用的支持，对 Preference Pages 的支持，支持 模型的合并等等。
本文主要基于 GMF2.0 的运行环境，介绍如何实现一个自上而下的 Process 分析工具。其 主要功能是：自上而下的分解一个大的 Process 为一批子 Process，每个 Process 可以由一 个具体的 Flow 来描述，对于同一个模型，可以由多个Editor去编辑，如Process Editor, Flow Editor。期望的结果如下图。
图 1.Process Editor
图 2.Flow Editor
本文将从定义领域模型入手，一步一步地介绍实现的细节。